Ellipsometer


●QR120K製品仕様書
●300mmウェハー対応屈折率膜厚測定装置製品仕様


Outline of QR120K


エリプソメータは薄膜の膜厚と屈折率を非接触高精度に測定する装置として、半導体や液晶などの 計測に広く使用されています。当社の面 測定型並列エリプソメータBEPE(Beam Expanding Parallel Ellipsometer)はサンプル全面の 数10万点を1度に測定して、膜厚と屈折率(密度と誘電率によるパラメーター)を画像として表示 できます。

Features of QR120K

1. ハイスループット: 200oウエハー全面12万点を30秒で測定します(面内分解能0.27×0.79oで)。300oウエハー ーは2回の測定となります。1ポイントあたりの計算時間は1変数計算で0.2msecです。
2. 高精度: ステージ移動による機械的誤差や、光束が広いので回折による誤差が生じません。また、高精細に測 定できるので薄膜の初期形成段階でも精度がよいなどの理由により、従来はできなかったシリコン酸 化膜膜厚50A程度でも、膜厚と屈折率の同時測定ができます。
3. 多層膜の測定: 新しく開発したアルゴリズムによってONO、SOIをはじめ各種多層膜が精度よく測定できます。
4. パターンつきサンプル: 、位置あわせの必要がないので、デバイスウェー ハーやトレンチキャパシターなどパターンを持ったサンプルを有効に測定できます。